一般消費財 痕跡分析 - SIMS、TOF-SIMSおよびICP/MS
痕跡分析は、非常に低濃度の不純物を検出できるため、品質管理手順で重要な役割を果たします。 半導体部品の製造では、微量の汚染でも歩留まりを低下させることがあり、また故障につながることすらあるために、痕跡分析は重要です。
SGSの痕跡分析では、製造工程における品質管理の根本的な部分として、信頼性の高い専門サービスが提供されます。 SGSの経験を積んだスタッフが、高性能機器を使用して、製品を誤作動させたり信頼性を損ねたりする可能性がある微量不純物を特定します。 SGSは、下記の手順を使用して高精度分析を実施します。
- 二次イオン質量分析法(SIMS) - 非常に低濃度の不純物を特定します。
- 飛行時間型質量分析法(TOF–SIMS) - 表面不純物を検出します
- 誘導結合プラズマ質量分析法（ICP/MS）は、気相分解法(VPD)またはパック抽出法(PEM)のサポートにより、幅広い元素に対して高感度です。
痕跡分析に関して、製品の品質および信頼性を高める方法の詳細については、SGSにお問い合わせください。